Energy Dispersive Spectrometry Calibration of Fe and Co

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作者
CB Vartuli,FA Stevie,B. M. Purcell,A Scwhitter,B.B. Rossie,S. D. M. Brown,TL Shofner,SD Anderson,JM McKinley,RB Irwin
出处
期刊:Microscopy and Microanalysis [Oxford University Press]
卷期号:7 (S2): 200-201 被引量:1
标识
DOI:10.1017/s1431927600027070
摘要

Energy Dispersive Spectrometry (EDS) is an ubiquitous method of elemental analysis for SEM, TEM, and STEM applications. The elements of interest are generally quantified without standards using theoretical calculations or by using standards that are high purity specimens of the elements measured. However, EDS is often used to determine a small percentage of an element in a matrix. The accuracy and limit of detection of these low concentration measurements has not been established. An earlier report proved the concept that a cross section high dose BF 2 implanted specimen could provide a standard for EDS measurement of F. This study extends this quantification approach to transition elements of importance to the semiconductor industry. The Fe and Co standards were created by high dose ion implantation. For ions implanted into silicon, a dose of lxl0 16 atoms/cm 2 results in a peak concentration of approximately lxl0 21 atoms/cm 3 or 2% atomic. The exact concentration can be determined using methods such as Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS).
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