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Depth profile analysis of chemically amplified resist by using TOF-SIMS with gradient shaving preparations

纳米 光刻胶 材料科学 聚合物 分析化学(期刊) 抵抗 纳米技术 化学 复合材料 色谱法 图层(电子)
作者
Naoki Man,Haruki Okumura,Hiroaki Oizumi,Naoto Nagai,Hirofumi Seki,Iwao Nishiyama
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:231-232: 353-356 被引量:24
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2004.03.093

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