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Depth profile analysis of chemically amplified resist by using TOF-SIMS with gradient shaving preparations
纳米
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作者
Naoki Man,
Haruki Okumura,
Hiroaki Oizumi,
Naoto Nagai,
Hirofumi Seki,
Iwao Nishiyama
出处
期刊:
Applied Surface Science
[Elsevier]
日期:2004-05-30
卷期号:231-232: 353-356
被引量:24
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2004.03.093
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