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作者
Chih-Chung Chang,Tri‐Rung Yew,Tsung‐Shune Chin
出处
期刊:CrystEngComm
[The Royal Society of Chemistry]
日期:2011-01-01
卷期号:13 (19): 5642-5642
被引量:13
摘要
Upon decreasing ultra-thin Ga16Sb84 films from 10 to 3 nm, the exponential increase in crystallization temperature and electrical resistance ratio are attributed to increased specific interface-energies and inhomogeneous interfacial strain at the interfaces. The specific interface-energies and strain also stabilize the Sb(Ga) phase and suppress phase-separation of the GaSb phase.
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