An indirect way to achieve comprehensive performance improvement of resistive memory: when hafnium meets ITO in an electrode

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作者
Lei Li,Kuan‐Chang Chang,Cong Ye,Xinnan Lin,Rui Zhang,Zhong Xu,Yi Zhou,Wen Xiong,Tzu-Peng Kuo
出处
期刊:Nanoscale [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:12 (5): 3267-3272 被引量:29
标识
DOI:10.1039/c9nr08943h
摘要

A method to improve RRAM performance through electrode material re-design by adopting a composite material with hafnium that exhibits superior interface properties.
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