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Electrochemical Delamination of Ultralarge Few‐Layer Black Phosphorus with a Hydrogen‐Free Intercalation Mechanism

材料科学 剥脱关节 插层(化学) 电化学 Crystal(编程语言) 石墨烯 电子迁移率 化学工程 电极 纳米技术 图层(电子) 无机化学 光电子学 物理化学 化学 工程类 计算机科学 程序设计语言
作者
Ning Wang,Nannan Mao,Zhien Wang,Xue Yang,Xi Zhou,Haining Liu,Shanlin Qiao,Xingfeng Lei,Junru Wang,Hua Xu,Xi Ling,Qiuyu Zhang,Qingliang Feng,Jing Kong
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:33 (1): e2005815-e2005815 被引量:59
标识
DOI:10.1002/adma.202005815
摘要

Due to strong interlayer interaction and ease of oxidation issues of black phosphorus (BP), the domain size of artificial synthesized few-layer black phosphorus (FL-BP) crystals is often below 10 µm, which extremely limits its further applications in large-area thin-film devices and integrated circuits. Herein, a hydrogen-free electrochemical delamination strategy through weak Lewis acid intercalation enabled exfoliation is developed to produce ultralarge FL-BP single-crystalline domains with high quality. The interaction between the weak Lewis acid tetra-n-butylammonium acetate (CH3 COOTBA) and P atoms promotes the average domain size of FL-BP crystal up to 77.6 ± 15.0 µm and the largest domain size is found to be as large as 119 µm. The presence of H+ and H2 O is found to sharply decrease the size of as-exfoliated FL-BP flakes. The electronic transport measurements show that the delaminated FL-BP crystals exhibit a high hole mobility of 76 cm2 V-1 s-1 and an on/off ratio of 103 at 298 K. A broadband photoresponse from 532 to 1850 nm with ultrahigh responsivity is achieved. This work provides a scalable, simple, and low-cost approach for large-area BP films that meet industrial requirements for nanodevices applications.
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