Largely Tunable Band Structures of Few-Layer InSe by Uniaxial Strain

材料科学 单层 带隙 图层(电子) 光致发光 拉伸应变 光电子学 应变工程 拉伤 直接和间接带隙 光电探测器 极限抗拉强度 纳米技术 复合材料 内科学 医学
作者
Chaoyu Song,Feng‐Ren Fan,Ningning Xuan,Shenyang Huang,Guowei Zhang,Chong Wang,Zhengzong Sun,Hua Wu,Hugen Yan
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:10 (4): 3994-4000 被引量:95
标识
DOI:10.1021/acsami.7b17247
摘要

Because of the strong quantum confinement effect, few-layer γ-InSe exhibits a layer-dependent band gap, spanning the visible and near infrared regions, and thus recently has been drawing tremendous attention. As a two-dimensional material, the mechanical flexibility provides an additional tuning knob for the electronic structures. Here, for the first time, we engineer the band structures of few-layer and bulk-like InSe by uniaxial tensile strain and observe a salient shift of photoluminescence peaks. The shift rate of the optical gap is approximately 90-100 meV per 1% strain for four- to eight-layer samples, which is much larger than that for the widely studied MoS2 monolayer. Density functional theory calculations well reproduce the observed layer-dependent band gaps and the strain effect and reveal that the shift rate decreases with the increasing layer number for few-layer InSe. Our study demonstrates that InSe is a very versatile two-dimensional electronic and optoelectronic material, which is suitable for tunable light emitters, photodetectors, and other optoelectronic devices.
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