Enhanced electrical stability and reliability of amorphous IGZO/HfO2 thin film transistors with CF4 plasma treatment

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作者
Gyulee Kim,Sunbum Kim,Minhyuk Kim,Changhwan Choi
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:: 162365-162365
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2025.162365
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