68‐3: Distinguished Paper: A 4.7 inch 650 PPI AM‐QLED Display Prepared by Direct Photolithography

光刻 计算机科学 工程制图 材料科学 纳米技术 工程类
作者
Di Zhang,Zhuo Li,Shaoyong Lu,Dong Li,Zhuo Chen,Yanzhao Li,Xinguo Li,Xiaoguang Xu
出处
期刊:Sid's Digest Of Technical Papers [Wiley]
卷期号:55 (1): 942-945
标识
DOI:10.1002/sdtp.17690
摘要

In this work, efficient QD‐photosensitive ligand system were designed. By direct photolithography, RGB pixel arrays with a single sub‐pixel size of 39 um × 5 um were successfully prepared on patterned PM substrates. While illuminated separately, there were no residual QD emission peaks from neighbor sub‐pixel in electroluminescence spectra. Experience on the PM substrate guided the successful preparation of a 4.7‐inch 650 ppi AM‐QLED display. This was the first AM‐QLED prototype prepared by direct lithography.
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