Strongly temperature dependent ferroelectric switching in AlN, Al1-xScxN, and Al1-xBxN thin films

材料科学 成核 铁电性 大气温度范围 极化(电化学) 矫顽力 凝聚态物理 介电常数 活化能 薄膜 压电 电介质 光电子学 纳米技术 化学 复合材料 热力学 物理 物理化学 有机化学
作者
Wanlin Zhu,John Hayden,Fan He,Jung-In Yang,Pannawit Tipsawat,Mohammad Delower Hossain,Jon‐Paul Maria,Susan Trolier‐McKinstry
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:119 (6) 被引量:98
标识
DOI:10.1063/5.0057869
摘要

This manuscript reports the temperature dependence of ferroelectric switching in Al0.84Sc0.16N, Al0.93B0.07N, and AlN thin films. Polarization reversal is demonstrated in all compositions and is strongly temperature dependent. Between room temperature and 300 °C, the coercive field drops by almost 50% in all samples, while there was very small temperature dependence of the remanent polarization value. Over this same temperature range, the relative permittivity increased between 5% and 10%. Polarization reversal was confirmed by piezoelectric coefficient analysis and chemical etching. Applying intrinsic/homogeneous switching models produces nonphysical fits, while models based on thermal activation suggest that switching is regulated by a distribution of pinning sites or nucleation barriers with an average activation energy near 28 meV.
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