Effect of size and plasma treatment and the application of Weibull distribution on the breakdown of PECVD SiNx MIM capacitors

威布尔分布 等离子体增强化学气相沉积 电容器 材料科学 等离子体 光电子学 电气工程 数学 物理 工程类 化学气相沉积 电压 统计 量子力学
作者
Chia-Cheng Ho,Sien Chi
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier]
卷期号:85 (1): 110-114 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.mee.2007.04.151

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