The Impact of Scaling on the Effects of Mixed-Mode Electrical Stress and Ionizing Radiation for 130-nm and 90-nm SiGe HBTs

电离辐射 光电子学 材料科学 压力(语言学) 辐射 缩放比例 混合模式 模式(计算机接口) 辐照 物理 光学 计算机科学 复合材料 语言学 哲学 几何学 数学 核物理学 操作系统
作者
D. Nergui,Mehdi Hosseinzadeh,Y. A. Mensah,H. P. Lee,D. S. Shylu Sam,K. Li,En Xia Zhang,Daniel M. Fleetwood,John D. Cressler
标识
DOI:10.1109/irps48228.2024.10529309
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