All‐Solution‐Processed Top‐Emitting InP Quantum Dot Light‐Emitting Diode with Polyethylenimine Interfacial Layer

聚乙烯亚胺 材料科学 光电子学 量子点 图层(电子) 发光二极管 二极管 纳米技术 转染 遗传学 细胞培养 生物
作者
Youngwoo Jeon,Soobin Sim,Doyoon Shin,Wan Ki Bae,Hyunkoo Lee,Hyunho Lee
出处
期刊:Advanced electronic materials [Wiley]
标识
DOI:10.1002/aelm.202400195
摘要

Abstract Recent studies on top‐emitting structure, which is designed to enhance the color purity and outcoupling efficiency of quantum‐dot light‐emitting diodes (QLEDs), employ commercially unviable methods owing to limited options for applying the hole injection layer through solution processes on the bottom electrode. In this study, all‐solution‐processable conventional top‐emitting QLEDs (TQLEDs) are successfully fabricated by introducing a polyethylenimine (PEI) interlayer, doping isopropyl alcohol (IPA) into the hole‐injection layer (poly (3,4‐ethylenedioxythiophene):poly(4‐styrenesulfonate), PEDOT:PSS), and using the dynamic spin‐coating method. The increased hole injection resulting from the tuned anode‐HIL interface by the PEI and IPA‐doped HIL, coupled with the enhanced outcoupling efficiency and full width at half maximum (FWHM) derived from the optimized cavity length through simulation, realizes a red InP QLED with high efficiency and color purity. The optimized TQLED exhibits a maximum current efficiency and FWHM of 28.04 cd A −1 and 36 nm, respectively, which are threefold higher and 8 nm narrower than those of bottom‐emitting QLEDs, marking the highest current efficiency ever reported for top‐emitting red InP QLEDs.

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