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Evolution of pronounced ferroelectricity in Hf0.5Zr0.5O2thin films scaled down to 3 nm

材料科学 铁电性 薄膜 光电子学 电介质 分析化学（期刊） 纳米技术 凝聚态物理 物理 色谱法 化学
作者
Chin-I Wang,Hsin-Yang Chen,Chun-Yuan Wang,Teng-Jan Chang,Yu‐Sen Jiang,Chih‐Sheng Chang,Miin‐Jang Chen
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2021-01-01 卷期号：9 (37): 12759-12767 被引量：18
标识
DOI：10.1039/d1tc01778k
摘要
Thickness dependent ferroelectric characteristics of HZO are systematically demonstrated down to 3 nm, exhibiting low operation voltage and high endurance.
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