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Room-temperature synthesized copper iodide thin film as degenerate p-type transparent conductor with a boosted figure of merit

功勋 材料科学 光学透明度 半导体 薄膜 光电子学 溅射 电导率 导电体 导线 碘化物 微晶 带隙 透明导电膜 纳米技术 化学 复合材料 无机化学 冶金 物理化学
作者
Chang Yang,Max Kneiβ,Michael Lorenz,Marius Grundmann
出处
期刊:Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America [National Academy of Sciences]
卷期号:113 (46): 12929-12933 被引量:215
标识
DOI:10.1073/pnas.1613643113
摘要

Significance The lack of high-performance p-type transparent conductors (TCs) has been a main obstacle for the development of transparent electronics. In this study, we overcome this challenge in achieving simultaneously high conductivity and transparency for p-type TCs by developing the degenerate wide-bandgap semiconductor cuprous iodide (CuI). We propose industrially applicable techniques including room-temperature physical deposition by reactive sputtering for thin-film growth and iodine doping of CuI. The obtained CuI polycrystalline thin films exhibit record high conductivity as well as a high transparency, resulting in a 100× improvement of the figure of merit compared with any other p-type transparent conducting material. These results indicate significant advances in the development of p-type TCs toward their practical use.
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