Nonvolatile Photoelectric Memory Induced by Interfacial Charge at a Ferroelectric PZT‐Gated Black Phosphorus Transistor

材料科学 光电子学 铁电性 非易失性存储器 晶体管 异质结 锆钛酸铅 场效应晶体管 光电效应 电压 电气工程 电介质 工程类
作者
Liu Xie,Xin Chen,Zhuo Dong,Qiang Yu,Xinxin Zhao,Guoliang Yuan,Zhongming Zeng,Yaojin Wang,Kai Zhang
出处
期刊:Advanced electronic materials [Wiley]
卷期号:5 (8) 被引量:50
标识
DOI:10.1002/aelm.201900458
摘要

Abstract Ferroelectric‐field‐effect‐transistor (FeFET) memory, characterized by its nonvolatile, nondestructive readout operation and low power consumption, has attracted tremendous attention in the development of next‐generation random‐access memory. However, the electrical reading processes in conventional FeFETs may attenuate the ferroelectric (FE) polarization and lead to readout crosstalk. A photoelectric‐type FeFET memory with alternative readout through 2D black phosphorus (BP)/lead zirconate titanate (PZT) heterostructures is developed. Based on charge‐mediated electric‐field control, a unique polarization‐dependent photoresponse is observed, resulting in both positive photoconductivity (PPC) and negative photoconductivity (NPC) in a single device element via FE gating. This enables a nonvolatile photoelectric memory working in a novel “electrical writing‐optical reading” process mode. Furthermore, the device exhibits a reliable data retention (over 3.6 × 10 3 s) and fatigue (exceeding 500 cycles) performance with extremely low energy consumption (driving voltage <10 mV). The demonstrated BP/PZT heterostructure memory devices show a pathway to high‐performance photoelectric storage devices as light‐activated logic gates for on‐chip optical communications.
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