Stable NontrivialZ2Topology in Ultrathin Bi (111) Films: A First-Principles Study

拓扑(电路) 琐碎 拓扑绝缘体 曲面(拓扑) 算法 材料科学 物理 计算机科学 数学 凝聚态物理 几何学 组合数学 数学分析
作者
Zheng Liu,Chao‐Xing Liu,Yong-Shi Wu,Wenhui Duan,Feng Liu,Jian Wu
出处
期刊:Physical Review Letters [American Physical Society]
卷期号:107 (13) 被引量:329
标识
DOI:10.1103/physrevlett.107.136805
摘要

Recently, there have been intense efforts in searching for new topological insulator materials. Based on first-principles calculations, we find that all the ultrathin Bi (111) films are characterized by a nontrivial Z(2) number independent of the film thickness, without the odd-even oscillation of topological triviality as commonly perceived. The stable nontrivial Z(2) topology is retained by the concurrent band gap inversions at multiple time-reversal-invariant k points with the increasing film thickness and associated with the intermediate interbilayer coupling of the Bi film. Our calculations further indicate that the presence of metallic surface states in thick Bi (111) films can be effectively removed by surface adsorption.
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