Fabrication of high-density In2Ga2ZnO7 sputtering target with uniform microstructure

材料科学 烧结 微观结构 电阻率和电导率 分析化学(期刊) 相(物质) 挥发 冶金 溅射 剩余电阻率 复合材料 纳米技术 薄膜 有机化学 核物理学 化学 工程类 物理 电气工程 色谱法
作者
Jiang‐An Liu,Chen‐Hui Li,Yang Zou,Liang Hu,Yusheng Shi
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:121: 105342-105342 被引量:5
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2020.105342

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