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Low-cost energy-efficient EUV lithography for advanced semiconductor manufacturing

极紫外光刻 平版印刷术 半导体 材料科学 半导体器件制造 下一代光刻 光电子学 纳米技术 工程物理 抵抗 工程类 电子束光刻 薄脆饼 图层（电子）
作者
T. Shintake,Patrick Naulleau
标识
DOI：10.1038/s44287-024-00129-3
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