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Enhanced chemical mechanical polishing (CMP) performance of porous self-assembled spherical cerium oxide via RE(La/Pr/Nd) doping

化学机械平面化 氧化铈 材料科学 多孔性 铈 兴奋剂 抛光 化学工程 氧化物 机械强度 复合材料 冶金 光电子学 工程类
作者
Zhenyu Zhang,Ning Wang,Xingzi Wang,Zheng Zhao,Dong Chen,Xianmin Tan,Yuanyuan Zheng,Zongyu Feng,Xiangxi Zhong,Juanyu Yang,Xiaowei Huang
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier]
日期：2024-09-01 卷期号：: 161236-161236 被引量：2
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2024.161236
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