Monolithic 3D sequential integration realizing 1600-PPI red micro-LED display on Si CMOS driver IC

CMOS芯片 像素 平版印刷术 材料科学 过程(计算) 集成电路 高分辨率 点间距 光电子学 计算机科学 电气工程 电子工程 计算机硬件 工程类 人工智能 遥感 地质学 操作系统
作者
Juhyuk Park,Dae‐Myeong Geum,Woojin Baek,Johnson Shieh,Sanghyeon Kim
标识
DOI:10.1109/vlsitechnologyandcir46769.2022.9830425
摘要

This work demonstrated the monolithic 3D (M3D) integrated red micro-LED display on Si CMOS driver IC. We achieved a very high pixel density of 1600 PPI by epitaxial layer engineering and low-temperature process design for the micro- display application. M3D sequential integration on pre- fabricated Si CMOS driver IC allows lithographic alignment for the pixel definition, providing high-resolution and the largest emission area per pixel pitch. Furthermore, the low-temperature process provided the lowest standby power among ever reported micro-LED displays. We believe that this work would be one of the milestones for future ultra-high-resolution displays.
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