Maintaining reproducible plasma reactor wall conditions: SF6 plasma cleaning of films deposited on chamber walls during Cl2/O2 plasma etching of Si

等离子体 蚀刻(微加工) 等离子体刻蚀 材料科学 等离子清洗 反应离子刻蚀 复合材料 图层(电子) 核物理学 物理
作者
Saurabh J. Ullal,Harmeet Singh,John Daugherty,Vahid Vahedi,Eray S. Aydil
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Vacuum Society]
卷期号:20 (4): 1195-1201 被引量:73
标识
DOI:10.1116/1.1479733
摘要

Silicon oxychloride films deposited on plasma etching reactor walls during the Cl2/O2 plasma etching of Si must be removed to return the reactor to a reproducible state prior to etching the next wafer. Using multiple surface and plasma diagnostics, we have investigated the removal of this silicon oxychloride film using an SF6 plasma. In particular, a diagnostic technique based on the principles of multiple total internal reflection Fourier transform infrared spectroscopy was used to monitor the films that formed on the reactor walls. The silicon oxychloride film etching proceeds by incorporation of F, which also abstracts and replaces the Cl atoms in the film. If the SF6 plasma is not maintained for a sufficiently long period to remove all the deposits, the F incorporated into the film leaches out into the gas phase during the subsequent etch processes. This residual F can have undesirable effects on the etching performance and the wafer-to-wafer reproducibility. The removal of the silicon oxychloride fil...
最长约 10秒,即可获得该文献文件

科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
更新
大幅提高文件上传限制,最高150M (2024-4-1)

科研通是完全免费的文献互助平台,具备全网最快的应助速度,最高的求助完成率。 对每一个文献求助,科研通都将尽心尽力,给求助人一个满意的交代。
实时播报
张张完成签到,获得积分10
1秒前
小二郎应助或习采纳,获得10
2秒前
Night发布了新的文献求助10
3秒前
雍雍完成签到 ,获得积分10
3秒前
小孩发布了新的文献求助10
3秒前
daoli完成签到,获得积分10
4秒前
Hello应助活力惜寒采纳,获得10
5秒前
5秒前
小二郎应助十二平均律采纳,获得10
5秒前
三叶草完成签到,获得积分10
5秒前
aaaa发布了新的文献求助10
5秒前
知了完成签到,获得积分10
6秒前
十米完成签到 ,获得积分10
6秒前
小蘑菇应助xuan采纳,获得10
6秒前
7秒前
7秒前
fat完成签到,获得积分10
7秒前
zlx完成签到,获得积分10
8秒前
wwww0wwww应助le采纳,获得10
8秒前
Fyyyyyyyyyz完成签到,获得积分10
9秒前
流星完成签到,获得积分10
10秒前
笨笨歌曲完成签到,获得积分10
10秒前
东北饿霸完成签到,获得积分10
10秒前
10秒前
摩尔曼斯克完成签到 ,获得积分20
10秒前
11秒前
DX发布了新的文献求助10
11秒前
琢钰发布了新的文献求助10
11秒前
11秒前
ppg123应助小雨采纳,获得10
11秒前
爆米花应助秋秋采纳,获得10
11秒前
小蓝完成签到,获得积分10
12秒前
12秒前
随机科研完成签到,获得积分10
12秒前
张津浩完成签到,获得积分10
12秒前
镜中月应助科研通管家采纳,获得10
12秒前
脑洞疼应助科研通管家采纳,获得10
12秒前
12秒前
wanci应助科研通管家采纳,获得10
12秒前
爆米花应助科研通管家采纳,获得10
12秒前
高分求助中
The late Devonian Standard Conodont Zonation 2000
Nickel superalloy market size, share, growth, trends, and forecast 2023-2030 2000
The Lali Section: An Excellent Reference Section for Upper - Devonian in South China 1500
Smart but Scattered: The Revolutionary Executive Skills Approach to Helping Kids Reach Their Potential (第二版) 1000
Very-high-order BVD Schemes Using β-variable THINC Method 850
Mantiden: Faszinierende Lauerjäger Faszinierende Lauerjäger 800
PraxisRatgeber: Mantiden: Faszinierende Lauerjäger 800
热门求助领域 (近24小时)
化学 医学 生物 材料科学 工程类 有机化学 生物化学 物理 内科学 纳米技术 计算机科学 化学工程 复合材料 基因 遗传学 催化作用 物理化学 免疫学 量子力学 细胞生物学
热门帖子
关注 科研通微信公众号,转发送积分 3249053
求助须知:如何正确求助?哪些是违规求助? 2892387
关于积分的说明 8271490
捐赠科研通 2560723
什么是DOI,文献DOI怎么找? 1389228
科研通“疑难数据库(出版商)”最低求助积分说明 651029
邀请新用户注册赠送积分活动 627870