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Ferroelectric-gate thin-film transistors with Bi3.15Nd0.85Ti3O12 gate insulators on LaNiO3-buffered Si substrates

铁电性材料科学光电子学晶体管薄膜电气工程纳米技术电介质电压工程类

作者

Hongjia Song,Tao Ding,Xiangli Zhong,J. B. Wang,Bodong Li,Y. Zhang,Congbing Tan,Yichun Zhou

出处

期刊：RSC Advances [The Royal Society of Chemistry]
日期：2014-01-01 卷期号：4 (105): 60497-60501 被引量：6

标识

DOI：10.1039/c4ra11952e

摘要

Ferroelectric-gate thin-film transistors (FGTs) with a stacked oxide structure of ZnO/Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂ (BNT)/LaNiO₃ (LNO) on Si substrates have been prepared and characterized.

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