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Recent Advances in Plasma Etching for Micro and Nano Fabrications of Silicon-based Materials: A Review

材料科学 等离子体刻蚀 纳米- 纳米技术 蚀刻（微加工） 硅 等离子体 工程物理 光电子学 复合材料 工程类 核物理学 图层（电子） 物理
作者
Chaojiang Li,Yuxin Yang,R.T. Qu,Xun Cao,Ye Liu,Xin Jin,Sheng-Gui Liu,Jiang Wang,Xianchao Zhang,Yuxuan Liu
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
标识
DOI：10.1039/d4tc00612g
摘要
The demands for precision machining of silicon-based materials are growing in various modern applications, including micro-electro-mechanical systems (MEMS), micromotors, sensors, bioelectronics, medical implants, and microfluidic devices. Towards the miniaturization and...
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