Chlorination of hydrogen-terminated silicon (111) surfaces

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作者
Sandrine Rivillon,Yves J. Chabal,Lauren J. Webb,David J. Michalak,Nathan S. Lewis,Mathew D. Halls,Krishnan Raghavachari
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Vacuum Society]
卷期号:23 (4): 1100-1106 被引量:73
标识
DOI:10.1116/1.1861941
摘要

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