Ab Initio Prediction of Vapor Pressure for Diverse Atomic Layer Deposition Precursors

原子层沉积从头算沉积（地质）图层（电子）化学气相沉积化学物理材料科学计算化学纳米技术化学地质学有机化学古生物学沉积物

作者

A. V. Odinokov,Won‐Joon Son,Alexander V. Yakubovich,Ji Young Park,Yongsik Jung

出处

期刊：Journal of Chemical Theory and Computation [American Chemical Society]
日期：2024-07-11

链接

nih.govdoi.org

标识

DOI：10.1021/acs.jctc.3c01416

摘要

Understanding the saturated vapor pressure (

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