Multipeak Coercive Electric-Field-Based Multilevel Cell Nonvolatile Memory With Antiferroelectric-Ferroelectric Field-Effect Transistors (FETs)

铁电性 非易失性存储器 材料科学 场效应晶体管 晶体管 矫顽力 四方晶系 光电子学 反铁电性 电介质 凝聚态物理 电压 相(物质) 电气工程 化学 物理 工程类 有机化学
作者
C.-Y. Liao,K.-Y. Hsiang,Z.-F. Lou,Cheng-Hung Lin,Yi-Ju Tseng,Hung Tseng,Zhixian Li,W.-C. Ray,K.-Y. Hsiang,Chun‐Chieh Wang,Tzu-Chiang Chen,Chih‐Sheng Chang,Min‐Hung Lee
出处
期刊:IEEE Transactions on Ultrasonics Ferroelectrics and Frequency Control [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:69 (6): 2214-2221 被引量:4
标识
DOI:10.1109/tuffc.2022.3165047
摘要

An ultralow program/erase voltage ( |VP/E| = 4 V) is demonstrated by using an antiferroelectric-ferroelectric field-effect transistor (AFE-FE-FET) through a multipeak coercive E -field ( EC ) concept for a four-level stable state with outstanding endurance (>105 cycles) and data retention (>104 s at 65 °C). The mixture of ferroelectric (FE) and AFE domains can provide stable multistate and data storage with zero bias for multilevel cell (MLC) applications. HfZrO2 (HZO) with AFE-FE assembles an orthorhombic/tetragonal (o/t) phase composition and is achieved by [Zr] modulation in an HZO system. MLC characteristics not only improve high-density nonvolatile memory (NVM) but are also beneficial to neuromorphic device applications.
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