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45nm CMOS technology with low temperature selective epitaxy of SiGe

外延 MOSFET 光电子学 材料科学 CMOS芯片 制作 锗 硅 结晶度 工程物理 纳米技术 图层（电子） 电子工程 电气工程 晶体管 工程类 复合材料 电压 病理 替代医学 医学
作者
Naoyoshi Tamura,Y. Shimamune
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier]
日期：2008-03-13 卷期号：254 (19): 6067-6071 被引量：33
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2008.02.162
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