Vacancy-formation energies at the (111) surface and in bulk Al, Cu, Ag, and Rh

空位缺陷 物理 曲面(拓扑) 局部密度近似 从头算 密度泛函理论 凝聚态物理 原子物理学 从头算量子化学方法 结合能 材料科学 结晶学 电子结构 量子力学 分子 化学 几何学 数学
作者
H. M. Polatoglou,M. Methfessel,Matthias Scheffler
出处
期刊:Physical review 卷期号:48 (3): 1877-1883 被引量:127
标识
DOI:10.1103/physrevb.48.1877
摘要

The vacancies at the Al, Cu, Ag, and Rh (111) surface are investigated using total-energy and charge-density calculations. For comparison, results of the bulk vacancies are presented as well. In both cases the (\ensuremath{\surd}3 \ifmmode\times\else\texttimes\fi{} \ensuremath{\surd}3 )R30\ifmmode^\circ\else\textdegree\fi{} surface unit cell is used. The calculations apply density-functional theory together with the local-density approximation and the ab initio full-potential linear-muffin-tin-orbital method. The results compare well with known experimental data. In addition, the results are discussed in terms of a tight-binding model in the second moment approximation. It is found that among those metals which are studied here, Al has exceptionally small values for the vacancy-formation energies in the bulk and at the surface. This is related to the formation of a ${\mathit{sp}}^{2}$ bonding component in the Al bonds on the (111) surface for the case of a periodic vacancy structure with a (\ensuremath{\surd}3 \ifmmode\times\else\texttimes\fi{} \ensuremath{\surd}3 )R30\ifmmode^\circ\else\textdegree\fi{} surface unit cell.

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