Robust transport of charge carriers in in-plane 1T′-2H MoTe2 homojunctions with ohmic contact

同质结 欧姆接触 材料科学 费米能级 载流子 光电子学 凝聚态物理 异质结 半导体 纳米技术 电子 物理 量子力学 图层(电子)
作者
Donglin Lu,Zhenqing Li,Congsheng Xu,Siwei Luo,Chaoyu He,Jun Li,Gang Guo,Guolin Hao,Xiang Qi,Jianxin Zhong
出处
期刊:Nano Research [Springer Science+Business Media]
卷期号:14 (5): 1311-1318 被引量:13
标识
DOI:10.1007/s12274-020-3155-4
摘要

Metal-semiconductor ohmic contacts are required to reduce the energy dissipation for two-dimensional (2D) electronic devices, and phase engineering of 2D transition-metal dichalcogenides (TMDCs) is a promising approach for building ohmic contacts. Here, 2D in-plane 1T′-2H MoTe2 homojunctions were prepared by direct epitaxy via vapor deposition. The interface properties of in-plane 1T′-2H MoTe2 homojunction were investigated in detail by combining experiments, calculations and theories. The ohmic contact properties of 1T′-2H MoTe2 homojunction were proved according to Kelvin force probe microscopy and density functional theory calculations. The charge carriers robust transport in in-plane 1T′-2H MoTe2 homojunction without Fermi-level pinning can be well described by Poisson equation and band alignment. These results indicate that phase engineering of 2D TMDCs is promising to construct ohmic contacts for device applications.
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