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Fabrication of high performance memristor device by metallization of Ag+ inside a solution processed Li5AlO4 thin film

材料科学 制作 记忆电阻器 薄膜 光电子学 纳米技术 工程物理 电气工程 医学 替代医学 病理 工程类
作者
Subarna Pramanik,Rajarshi Chakraborty,Sobhan Hazra,Utkarsh Pandey,Bhola N. Pal
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
标识
DOI：10.1039/d4tc02527j
摘要
A solution processed Ag-ion-exchanged Li 5 AlO 4 thin film has been used to fabricate a high performance oxide memristor device with enhanced bistable switching and memory retention.
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