Reoxidation ofTiO2(110)via Ti interstitials and line defects

结晶学 氧气 材料科学 扫描隧道显微镜 成核 从头算 密度泛函理论 物理 化学 纳米技术 计算化学 热力学 量子力学
作者
K. T. Park,Minghu Pan,Vincent Meunier,E. W. Plummer
出处
期刊:Physical Review B [American Physical Society]
卷期号:75 (24) 被引量:70
标识
DOI:10.1103/physrevb.75.245415
摘要

The interaction of oxygen with line defects of Ti interstitials on a $\mathrm{Ti}{\mathrm{O}}_{2}(110)$ surface is investigated using scanning tunneling microscopy (STM) measurements and first-principles calculations. Ab initio molecular dynamics calculations show that an oxygen molecule dissociatively adsorbs on a row of Ti interstitials. Oxygen atoms subsequently surround a Ti interstitial to form the equatorial plane of a partially complete octahedron, a basic building block for single- and double-strand formation. Upon the exposure of single strands to oxygen at room temperature, bright spots preferentially agglomerate on and along strands. The STM images of the bright spots, interpreted with density functional theory, indicate that they are $\mathrm{Ti}{\mathrm{O}}_{x}$ $(x<2)$ aggregates and that strands may serve as nucleation sites for the surface growth.
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