Rb3B11P2O23: Materials Design of a New Chemically Benign Deep-Ultraviolet Nonlinear Optical Material

二次谐波产生 材料科学 紫外线 双折射 光电子学 光学 非线性光学 非线性光学 非线性系统 物理 激光器 量子力学
作者
Haonan Liu,Hongping Wu,Zhanggui Hu,Jing Wang,Yicheng Wu,P. Shiv Halasyamani,Hongwei Yu
出处
期刊:ACS materials letters [American Chemical Society]
卷期号:5 (1): 155-161 被引量:30
标识
DOI:10.1021/acsmaterialslett.2c00929
摘要

Deep-ultraviolet (DUV) coherent light is urgently needed for many important technological applications such as lithography and advanced scientific instruments. Its generation, however, strongly depends on the frequency conversion of nonlinear optical (NLO) materials. Currently, KBe2BO3F2 (KBBF) is sole material that can produce the DUV coherent light by direct second-harmonic generation (SHG), i.e., sixth harmonic generation of Nd:YAG (1064 nm/6 = 173 nm). The strong layering growth habit, and the highly toxicity of BeO make the safe growth of KBBF a great challenge. In this communication, we report the first chemically benign DUV three-dimensional mixed-coordinated borophosphate Rb3B11P2O23 (RBPO). This material inherits all the excellent structural genes of KBBF and achieves comparable optical properties, such as a large SHG response (2.5 × KDP; 1.2 × KDP for KBBF), short absorption edge (168 nm; 147 nm for KBBF) and suitable birefringence (0.071@1064 nm; 0.077@1064 nm for KBBF). More importantly, RBPO melts congruently and can overcome all the processing limitations of KBBF. Theoretical calculations and structure analysis reveal that its superior optical properties can be attributed to the KBBF-like [B4P2O11]∞ layers, where NLO-active B3O7 groups adopt a coplanar configuration with well-ordered arrangement. These indicate RBPO will be the new generation of DUV NLO crystal.
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