Chemical solution growth of ferroelectric oxide thin films and nanostructures

铁电性 纳米结构 氧化物 材料科学 薄膜 纳米技术 化学工程 光电子学 冶金 电介质 工程类
作者
Nazanin Bassiri‐Gharb,Yaser Bastani,Ashley Bernal
出处
期刊:Chemical Society Reviews [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:43 (7): 2125-2140 被引量:102
标识
DOI:10.1039/c3cs60250h
摘要

Chemical solution deposition (CSD) provides a low-cost, versatile approach for processing of thin and ultrathin ferroelectric films, as well as short and high aspect ratio ferroelectric nanostructures. This review discusses the state of the art in the processing of ferroelectric oxide thin films and nanostructures by CSD, with special emphasis on nucleation and growth phenomena. The effects of choice of precursor solution, substrate and bottom electrode stack, and thermal treatment conditions on the nucleation and growth are examined. Furthermore, methods to control ferroelectric thin film's microstructure, including phase content, texture, grain size and chemical homogeneity, are reviewed. Lastly, current CSD-based methods for processing of ferroelectric oxide nanostructures are presented with special consideration of the structural development, as well as advantages and shortcomings associated with each method. Lead zirconate-titanate, Pb(ZrxTi1-x)O3 (PZT), and barium titanate, BaTiO3 (BT), are used throughout the discussion, as specific examples for CSD processing of perovskite ferroelectrics.

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