Room‐Temperature Solution‐Synthesized p‐Type Copper(I) Iodide Semiconductors for Transparent Thin‐Film Transistors and Complementary Electronics

材料科学 薄膜晶体管 晶体管 光电子学 半导体 图层(电子) 薄膜 碘化物 纳米技术 电压 无机化学 电气工程 冶金 工程类 化学
作者
Ao Liu,Huihui Zhu,Won‐Tae Park,Seok‐Ju Kang,Yong Xu,Myung‐Gil Kim,Yong‐Young Noh
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:30 (34): e1802379-e1802379 被引量:165
标识
DOI:10.1002/adma.201802379
摘要

Abstract Here, room‐temperature solution‐processed inorganic p‐type copper iodide (CuI) thin‐film transistors (TFTs) are reported for the first time. The spin‐coated 5 nm thick CuI film has average hole mobility ( µ FE ) of 0.44 cm 2 V −1 s −1 and on/off current ratio of 5 × 10 2 . Furthermore, µ FE increases to 1.93 cm 2 V −1 s −1 and operating voltage significantly reduces from 60 to 5 V by using a high permittivity ZrO 2 dielectric layer replacing traditional SiO 2 . Transparent complementary inverters composed of p‐type CuI and n‐type indium gallium zinc oxide TFTs are demonstrated with clear inverting characteristics and voltage gain over 4. These outcomes provide effective approaches for solution‐processed inorganic p‐type semiconductor inks and related electronics.
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