Silicon Nanowire Band Gap Modification

带隙 纳米线 密度泛函理论 材料科学 凝聚态物理 原子轨道 量子点 电子能带结构 半金属 直接和间接带隙 分子物理学 硅纳米线 光电子学 纳米技术 化学 电子 物理 计算化学 量子力学
作者
Michael Nolan,Sean O’Callaghan,Giorgos Fagas,James C. Greer,Thomas Frauenheim
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:7 (1): 34-38 被引量:226
标识
DOI:10.1021/nl061888d
摘要

Band gap modification for small-diameter (approximately 1 nm) silicon nanowires resulting from the use of different species for surface termination is investigated by density functional theory calculations. Because of quantum confinement, small-diameter wires exhibit a direct band gap that increases as the wire diameter narrows, irrespective of surface termination. This effect has been observed in previous experimental and theoretical studies for hydrogenated wires. For a fixed cross-section, the functional group used to saturate the silicon surface significantly modifies the band gap, resulting in relative energy shifts of up to an electronvolt. The band gap shifts are traced to details of the hybridization between the silicon valence band and the frontier orbitals of the terminating group, which is in competition with quantum confinement.
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