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Stress control of silicon nitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

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作者

Dongling Li,Xiaofei Feng,Zhiyu Wen,Zhengguo Shang,Yin She

出处

期刊：Optoelectronics Letters [Springer Nature]
日期：2016-07-01 卷期号：12 (4): 285-289 被引量：9

标识

DOI：10.1007/s11801-016-6058-6

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