Effect of AlN Interlayer Thickness on 2DEG Parameters in AlGaN/AlN/GaN HEMT Structures

高电子迁移率晶体管 材料科学 光电子学 宽禁带半导体 氮化镓 晶体管 复合材料 图层(电子) 电气工程 电压 工程类
作者
Dmitriy D. Bashkatov,Т. В. Малин,V. G. Mansurov,D. Yu. Protasov,Denis Milakhin,К. С. Журавлев
标识
DOI:10.1109/edm61683.2024.10615105
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