Improved Self-Heating in Short-Channel Monolayer WS2 Transistors with High-Thermal Conductivity BeO Dielectrics

单层 跨导 材料科学 电介质 晶体管 光电子学 场效应晶体管 热导率 电导率 纳米技术 电气工程 化学 电压 复合材料 工程类 物理化学
作者
Xinhang Shi,Xuefei Li,Qi Guo,Han Gao,Min Zeng,Yibo Han,Shiwei Yan,Yanqing Wu
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:22 (18): 7667-7673 被引量:9
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.2c02901
摘要

Two-dimensional semiconducting transition metal dichalcogenides (TMDs) enable ultimate channel length scaling of transistor technology due to their atomic-thin body nature, which also brings the challenge of a pronounced self-heating effect inside the ultrathin channel. In particular, high current density under high electric field could lead to negative differential resistance behavior due to self-heating, not only limiting the current carrying capability of the TMDs transistors but also leading to severe reliability issues. Here, we report high-performance monolayer WS2 transistors on a high-thermal-conductivity BeO dielectric with effective suppression of the self-heating effects, eliminating the negative differential resistance behavior at high field, as observed in the case of the HfO2 dielectric. The monolayer CVD WS2 device on BeO with a 50 nm channel length exhibits a record-high on-state current of 325 μA/μm, transconductance (gm) of 150 μS/μm, and a on/off ratio of 1.8 × 108 at Vds = 1 V, far exceeding previous results.
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