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Plasma-enhanced atomic-layer deposition of active layers of nanolaminated (InOx)n(GaZnOy)m for thin-film transistors

原子层沉积 材料科学 图层（电子） 等离子体 沉积（地质） 晶体管 光电子学 薄膜 薄膜晶体管 纳米技术 电气工程 物理 电压 古生物学 工程类 量子力学 沉积物 生物
作者
Hyun‐Jun Jeong,Won-Bum Lee,Jiazhen Sheng,Jun Hyung Lim,Jin‐Seong Park
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01 卷期号：10 (20): 7831-7838 被引量：2
标识
DOI：10.1039/d1tc06050c
摘要
Vertically nano-laminated InO x and GaZnO y semiconductors exhibited excellent controllability of electron carriers in TFTs via PEALD methods.
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