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Flat-surface-assisted and self-regulated oxidation resistance of Cu(111)

铜 钝化 微晶 材料科学 吸附 半导体 氧气 平面 化学物理 纳米技术 化学 冶金 图层（电子） 复合材料 物理化学 光电子学 有机化学
作者
Su Jae Kim,Yong In Kim,Bipin Lamichhane,Young‐Hoon Kim,Yousil Lee,Chae‐Ryong Cho,M. Cheon,Jong Chan Kim,Hu Young Jeong,Taewoo Ha,Jungdae Kim,Young Hee Lee,Seong‐Gon Kim,Young‐Min Kim,Se‐Young Jeong
出处
期刊：Nature [Nature Portfolio]
日期：2022-03-16 卷期号：603 (7901): 434-438 被引量：115
链接
nature.com nih.gov nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1038/s41586-021-04375-5
摘要
Oxidation can deteriorate the properties of copper that are critical for its use, particularly in the semiconductor industry and electro-optics applications
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