A STUDY OF FEMTOSECOND LASER POLISHING OF CVD NANOPOLYCRYSTALLINE DIAMOND FILMS

材料科学 通量 钻石 飞秒 纳米金刚石 激光器 抛光 无定形固体 光学 辐照 表面粗糙度 光电子学 表面光洁度 化学气相沉积 复合材料 化学 结晶学 物理 核物理学
作者
Yuxiao Cui,Ping Guo,Xueming Zhu,Yanling Tian,Dawei Zhang,Houjun Qi
出处
期刊:Surface Review and Letters [World Scientific]
卷期号:28 (04): 2150023-2150023 被引量:2
标识
DOI:10.1142/s0218625x21500232
摘要

Femtosecond (fs) laser ablation has been recognized as an effective and promising technique for high-precision processing of natural and synthesized diamond. In this work, a study of femtosecond laser polishing for nanopolycrystalline diamond (NCD) films by chemical vapor deposition (CVD) is reported. The laser irradiation is induced by 200-fs laser pulses with a repetition frequency of 50[Formula: see text]MHz, and various laser fluences are employed to investigate their polishing effectiveness. The results show that the optimal laser fluence is 0.7[Formula: see text]J/cm 2 , at which the nanodiamond grains on top of the cauliflower-like clusters of NCD films can be ablated. With such laser fluence, the mean surface roughness of NCD films reduces from 73.84[Formula: see text]nm to 31.88[Formula: see text]nm, which presents a 57% reduction. Nevertheless, when the laser fluence rises beyond 0.7[Formula: see text]J/cm 2 , large amount of amorphous carbon (a-C) balls and porous lava-like morphology would come into being, resulting in severe degradation of the NCD surface.
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