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Vapor Deposition of Bilayer 3R MoS2 with Room‐Temperature Ferroelectricity

材料科学 双层 铁电性 化学气相沉积 极化(电化学) 纳米技术 二极管 磁滞 压电响应力显微镜 范德瓦尔斯力 肖特基势垒 凝聚态物理 光电子学 电介质 化学 物理 物理化学 生物化学 有机化学 分子
作者
H. Jiang,Lei Li,Yao Wu,Ruihuan Duan,Kongyang Yi,Lishu Wu,Chao Zhu,Lei Luo,Manzhang Xu,Lu Zheng,Xuetao Gan,Wu Zhao,Xuewen Wang,Zheng Liu
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:36 (32) 被引量:10
标识
DOI:10.1002/adma.202400670
摘要

Abstract Two‐dimensional ultrathin ferroelectrics have attracted much interest due to their potential application in high‐density integration of non‐volatile memory devices. Recently, 2D van der Waals ferroelectric based on interlayer translation has been reported in twisted bilayer h ‐BN and transition metal dichalcogenides (TMDs). However, sliding ferroelectricity is not well studied in non‐twisted homo‐bilayer TMD grown directly by chemical vapor deposition (CVD). In this paper, for the first time, experimental observation of a room‐temperature out‐of‐plane ferroelectric switch in semiconducting bilayer 3R MoS 2 synthesized by reverse‐flow CVD is reported. Piezoelectric force microscopy (PFM) hysteretic loops and first principle calculations demonstrate that the ferroelectric nature and polarization switching processes are based on interlayer sliding. The vertical Au/3R MoS 2 /Pt device exhibits a switchable diode effect. Polarization modulated Schottky barrier height and polarization coupling of interfacial deep states trapping/detrapping may serve in coordination to determine switchable diode effect. The room‐temperature ferroelectricity of CVD‐grown MoS 2 will proceed with the potential wafer‐scale integration of 2D TMDs in the logic circuit.
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