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Defects at the Si/SiO2 interface: Their nature and behaviour in technological processes and stress

悬空债券 材料科学 氧化物 压力(语言学) 化学物理 氧化硅 应变硅 纳米技术 凝聚态物理 光电子学 晶体硅 化学 冶金 物理 语言学 哲学 氮化硅 非晶硅
作者
W. Füssel,M. Schmidt,H. Angermann,G. Mende,H. Flietner
出处
期刊:Nuclear Instruments and Methods in Physics Research [Elsevier]
卷期号:377 (2-3): 177-183 被引量:100
标识
DOI:10.1016/0168-9002(96)00205-7

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