EDGE PASSIVATION FOR SMAILL-AREA, HIGH EFFICIENCY SOLAR CELLS

钝化 材料科学 光电子学 薄脆饼 GSM演进的增强数据速率 激光器 太阳能电池 光学 纳米技术 图层(电子) 物理 工程类 电信
作者
Jiun‐Hua Guo,J.E. Cotter,Keith R. McIntosh,Kathryn C. Fisher,Florence W. Chen,A. Karpour
链接
摘要

Small-area, laboratory solar cells usually suffer significant efficiency loss after being detached from their host wafer due to edge recombination at the cut-face. This problem has afflicted the n-type Interdigitated Backside Buried Contact (IBBC) solar cells developed at UNSW, limiting the fill factor to 0.77 and the efficiency to 19.2%. In this work, the edge recombination is reduced by introducing a laser-scribed groove into the IBBC fabrication sequence to function as both edge passivation and isolation along the cell perimeter. Unlike the current laser edge isolation used in the back-end of commercial production lines, the laser-scribed isolation trench is applied in the front-end of the process and therefore receives a laser-damage etch as well as a high-quality thermal oxide. With the incorporation of this novel edge design, the dark saturation current associated with the unpassivated edge (J02) is significantly reduced from 8-11 nA/cm 2 to 3.3 nA/cm 2 , thereby increasing the fill factor to 0.79 and the

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