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[求助补充材料] Study of selective isotropic etching Si1−xGex in process of nanowire transistors
纳米线晶体管中选择性各向同性刻蚀Si1-xGex的研究
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期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics 作者:Junjie Li; Wenwu Wang; Yongliang Li; Na Zhou; Guilei Wang; et al 出版日期:2020-01-01 |
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