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 Determination des parametres cinetiques de l'electrodeposition du cuivre a haute densite de courant. Cas des solutions sulfuriques sans inhibiteur 高密度电镀工艺参数的测定。无抑制剂硫磺溶液化学文摘社
相关领域
化学
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期刊：Electrochimica Acta 作者：Marc Debouverie; René Winand 出版日期：1984-03-01 |
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