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标题
(Digital Presentation) High-Dose Ion-Implanted Photoresist Stripping Technology Employing High Temperature Single-Wafer SPM System
（数字演示）采用高温单晶片SPM系统的高剂量离子注入光刻胶剥离技术
相关领域
光刻胶 薄脆饼 材料科学 灰化 蚀刻（微加工） 放气 剥离（纤维） 光电子学 图层（电子） 纳米技术 化学 复合材料 物理 有机化学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1149/ma2022-01281263mtgabs
DOI
10.1149/ma2022-01281263mtgabs doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：Konosuke Sasahira; Satoshi Nakamura; Koichi Hamada; Sadayuki Jinbo; Kei Hattori
出版日期：2022-07-07
求助人
Joe 在 2024-11-25 11:02:43 发布自江苏，悬赏 10 积分
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