标题 |
Thickness-dependent electronic relaxation dynamics in solution-phase redox-exfoliated MoS2 heterostructures
溶液相氧化还原剥离MoS2异质结构中厚度相关的电子弛豫动力学
相关领域
异质结
材料科学
二硫化钼
单层
放松(心理学)
氧化还原
分析化学(期刊)
皮秒
相(物质)
化学
光电子学
纳米技术
光学
激光器
复合材料
有机化学
物理
冶金
社会心理学
色谱法
心理学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:The Journal of Chemical Physics 作者:William R. Jeffries; Ali M. Jawaid; Richard A. Vaia; Kenneth L. Knappenberger 出版日期:2024-04-10 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|