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 Deposition temperature determination of HDPCVD silicon dioxide films HDPCVD二氧化硅薄膜沉积温度的测定
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：G. Gulleri; C. Carpanese; C. Cascarano; D. Lodi; R. Ninni; G. Ottaviani 出版日期：2005-08-25 |
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