Individual dopant profiles in high energy multiple implantation under channeling conditions

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标题	Individual dopant profiles in high energy multiple implantation under channeling conditions 沟道条件下高能多重注入中的单个掺杂剂分布相关领域材料科学掺杂剂退火（玻璃）离子注入硅砷低能掺杂剂活化兴奋剂光电子学冶金原子物理学离子量子力学物理
网址	https://doi.org/10.1557/s43580-022-00369-1
DOI	10.1557/s43580-022-00369-1 doi
其它	期刊：MRS Advances 作者：Yoji Kawasaki; Takuya Sakaguchi; Makoto Sano; Haruka Sasaki 出版日期：2022-11-08
求助人	Gaoge 在 2025-02-06 09:40:38 发布自北京，悬赏 10 积分
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